E-FORM Mask
标新综合技术全方位解决方案
以四大核心技术为基础，向顾客提供各种服务。
概述
- 适用于图片平板印刷术工程的E-FORM Mask提供优秀的印刷品质。
- 可以呈现优秀的精密度（Most Accuracy）。
- 优秀的印刷性，耐久性可以用于需要细微频率的电子配件，半导体制造中。
- 直线，曲线，圆形完整的开口部形状模板。
- 根据顾客的要求可以自由的调控厚度。
- 控制为开口部位±3Mm，开口部位墙面Ra值为0.1Mm以下。
- 可以适用COB MASK的话，也可以部分的适用一半蚀刻。
适用
- 智能手机
- 可穿戴式
- 柔性
- 氢自动机
- 替代能源
规格
| 材料 | Ni+Co Alloy(HV450以上) | |
|---|---|---|
| 加工厚度 | 20㎛, 25㎛, 35㎛, 50㎛, 60㎛, 80㎛, 100㎛等 | |
| 厚度精密度 | ±10% | |
| 加工精密度 | ± 3㎛ | |
| 最少Opening | 最少20㎛ | |
| 适用产品 | 晶圆凸块，电极印刷，下一代最佳金属掩模(Metal Mask)。 | |
| 截止日期 | 6～7日内。 | |
| 框架大小 | 650mm × 550mm 或者 736mm × 736mm | |
| Paste 空缺 | 非常优秀 | |
| 特征 | 设计完Auto CAD后制作光掩膜版 | |
| 适用图片平板印刷术工程的形式 | ||
| 限于用Ni+Co合金选择的部位制作铸 | ||
| 可以自由制作铸厚度 | ||
| 跟激光切割方式不同的是开口部位没有Burr | ||
| 跟激光，蚀刻相比是最精密的模式和精密度 | ||
| 激光，蚀刻可以进行无法进行的模式和结构 | ||
| 代替技术 | 激光掩模，腐蚀[蚀刻]掩模 | |
| 适用 | 半导体，LED，电子配件 |
